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我国靶材行业急需突破人才和技术瓶颈

来源: 发布时间:2019-04-23           

  我国靶材行业急需突破人才和技术瓶颈

  集成电路制造工艺的不断前行,使得无论在微观品质,还是宏观规格上,对靶材的质量都提出了越来越高的要求。集成电路制造工艺的微细化、溅射用薄膜材料的多元化,要求靶材除了纯度高、成分均匀等之外,还主要体现在靶材的致密度、晶粒尺寸、织构、电导率和结合强度等方面的严格要求;同时,随着晶圆尺寸的逐渐增加,要求靶材尺寸也随之增大,在大尺寸材料的组织性能均匀性控制、高精度成型加工等方面提出挑战;此外,为了进一步提高靶材的使用性能,还需要对靶材的结构进行优化设计。这无疑对国内靶材企业提出了新的更高的挑战。

  虽然近年来我国集成电路、平板显示、太阳能电池等产业的快速发展,让我国已逐渐成为世界上薄膜靶材最大的需求地区之一,但不可否认的是,超高纯溅射靶材仍需从国外进口。

  由于国内超高纯溅射靶材产业起步较晚,且受到技术、资金和人才的限制,国内专业从事超高纯溅射靶材的生产企业数量偏少,企业规模和技术水平参差不齐,多数国内企业处于企业规模较小、技术水平偏低、产业布局分散的状态,市场尚处于开拓初期,主要集中在低端产品领域竞争。他指出,面对激烈的国际竞争,溅射靶材产业专业人才的匮乏成为制约国内靶材产业发展的痛点。“靶材的研制主要是在企业内实施,各靶材公司为在竞争中取得优势,技术均高度保密,所以该行业专业化很强,人才选择局限于为数不多的靶材公司内部。高校及科研院所开展溅射靶材基础研究及应用研究较少,时间也较短,研究力度也没有靶材公司大,因此培养的人才,无论是在数量上还是水平上都略显不足。”姚力军说。他同时指出,随着全球制造中心向中国转移,国外靶材供应商考虑到价格和交货期的因素,希望实现本土化供应,于是,纷纷在中国建立加工厂,这无疑使得国内靶材业面临的竞争更加激烈。“此外,我国超高纯溅射靶材原材料制备尚需实现重大突破,原材料品质一致性、关键技术等问题也亟待解决。”姚力军告诉记者。

  以钽靶材为例剖析行业普遍存在的问题,国外同行形成的技术及产业链壁垒,给钽靶材本土化造成技术障碍与陷阱,无法形成反馈机制。同时,国外同行的钽靶材产品技术成熟稳定,具有成本优势,而钽靶材在国内处于初始阶段,生产成本高,不具备进入市场的成本优势。

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