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镀膜靶材:国内发展迎头赶上

来源: 发布时间:2019-04-23           

  镀膜靶材:国内发展迎头赶上

  镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统,在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。集成电路、平板显示是用靶材主要应用领域,其溅射产品主要包括电极互连线膜、电容器电极膜、接触薄膜、光盘掩膜、阻挡层薄膜、电阻薄膜等。国际上高端溅射靶材的主要生产商有JX/Nikko、Praxair/MRC、Honeywell Electronic Materials、Tosoh SMD等。

      平板显示用高纯金属靶材市场主要被奥地利攀时股份有限公司(Plansee)、德国世泰科(H.C. Starck)和日本日立金属株式会社(Hitach metal)、住友化学集团(Sumitomo)所垄断,其中奥地利攀时和德国世泰科是全球最大的钼靶供应商。ITO高端靶材被日本矿业有限公司、日本三井金属矿业有限公司、日本东曹化工有限公司、韩国三星等少数公司所垄断。日本矿业和三井矿业几乎占据高端TFT-LCD市场用ITO靶材的全部份额和大部分的触摸屏面板市场,每家年供应量达到600t以上。

  我国是世界上薄膜溅射靶材的最大需求地区,国内靶材材料发展速度较快。

  国内企业氧化铟锡(ITO)靶材技术自主研发进展缓慢,受技术限制主要供应低端市场;而高端TFT-LCD、触摸屏用ITO靶材几乎全部从日本和韩国进口。近年来国内企业加快了ITO靶材的技术研发和引进,在建有多个高端ITO靶材国产化项目

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